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MOCVD全稱是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition(金屬有機化學氣相沉積設備),是在基板上生長電晶體薄膜的一種科技。 利用MOCVD科技,許多納米層可以以極高的精度沉積,每一層都具有可控的厚度,以形成具有特定光學和電學特性的資料。 MOCVD是用於LED晶片和功率器件製造的關鍵工藝科技。 中微公司在MOCVD領域有非常深厚的科技積累。 公司於2013年發佈了第一代MOCVD設備PRISMO D-BLUE ®, 由於其較高的靈活性和生產效率、優异的效能以及簡便易行的設備維護,中微的MOCVD設備快速獲得了客戶的認可和信任。 2016年,中微發佈了其第二代MOCVD設備PRISMO A7 ®。 在PRISMO D-BLUE的基礎上,PRISMO A7新增了一些新的特徵,以進一步提升生產效率和加工效能。 該設備已應用於國內眾多領先的LED生產線。 中微具有自主知識產權的MOCVD設備PRISMO HiT3 ®, 是適用於高品質氮化鋁和高鋁組分資料生長的關鍵設備。 在不到三年的時間裏,中微已經在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場佔據領先地位。