MOCVD全稱是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金屬有機化學氣相沉積設備），是在基板上生長電晶體薄膜的一種科技。 利用MOCVD科技，許多納米層可以以極高的精度沉積，每一層都具有可控的厚度，以形成具有特定光學和電學特性的資料。 MOCVD是用於LED晶片和功率器件製造的關鍵工藝科技。
中微公司在MOCVD領域有非常深厚的科技積累。 公司於2013年發佈了第一代MOCVD設備PRISMO D-BLUE ®， 由於其較高的靈活性和生產效率、優异的效能以及簡便易行的設備維護，中微的MOCVD設備快速獲得了客戶的認可和信任。
2016年，中微發佈了其第二代MOCVD設備PRISMO A7 ®。 在PRISMO D-BLUE的基礎上，PRISMO A7新增了一些新的特徵，以進一步提升生產效率和加工效能。 該設備已應用於國內眾多領先的LED生產線。
中微具有自主知識產權的MOCVD設備PRISMO HiT3 ®， 是適用於高品質氮化鋁和高鋁組分資料生長的關鍵設備。
在不到三年的時間裏，中微已經在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場佔據領先地位。
