薄膜設備

作為中微公司自主研發的產出效率高且性能優秀的12英寸CVD金屬鎢設備,Preforma Uniflex™CW可靈活配置多達五個雙反應臺的反應腔,每個反應腔皆能同時加工兩片晶圓,在保證較低的生產成本和化學品消耗的同時,實現較高的生產效率。Preforma Uniflex™CW配備了完全擁有自主知識產權的優化混氣方案,自主設計優化的分氣抽氣系統和真空卡盤,具有優秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節靈活性,對於彎曲度較大的晶圓,它也具備良好的工藝處理能力。並且其優異的階梯覆蓋率和填充能力,可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。