公司簡介
願景、使命,工作指導原則
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環境、社會及治理
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Primo D-RIE®
Primo AD-RIE®
Primo SSC AD-RIE®
Primo iDEA®
Primo HD-RIE®
Primo TSV®
Primo nanova®
Primo Twin-Star®
Prismo D-BLUE®
Prismo A7®
Prismo HiT3®
Prismo UniMax®
Preforma Uniflex™ CW
VOC淨化設備
社會招聘
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家庭日
員工俱樂部
刻蝕設備
MOCVD設備
薄膜設備
環保設備
第1500個CCP刻蝕設備反應臺順利付運
中微完成再融資發行,共募資82億元
發佈用於高性能Mini-LED量產的MOCVD設備Prismo UniMax ®
首臺8英寸CCP刻蝕設備Primo AD-RIE 200 ™ 順利付運
中微電晶體設備產業化項目簽約落戶上海自貿試驗區臨港新片區“東方芯港”集成電路綜合性產業基地
發佈用於深紫外LED量產的MOCVD設備Prismo HiT3 ®
成為科創板首批上市公司之一
中微在美國VLSIresearch舉辦的全球客戶滿意度調查中連續排名前列,綜合評分全球第三,是五個被評為五星級企業之一
完成股份公司整體變更
中微在美國VLSIresearch舉辦的全球客戶滿意度調查中榮登上榜,在全球晶圓製造設備供應商中排名第三,是唯一一家上榜的中國本土電晶體設備公司
中微第100臺MOCVD Prismo A7 ® 反應腔付運里程碑
中微刻蝕設備進入國際先進7納米生產線
首臺雙反應臺ICP刻蝕設備產品研製成功
首臺单眼應臺ICP刻蝕設備產品研製成功,並運往國內客戶
中微7納米介質刻蝕設備研製成功
首臺第二代MOCVD設備產品研製成功,並運往國內客戶
首臺VOC設備產品研製成功,並運往國內客戶
中微14納米介質刻蝕設備研製成功
中微、國家集成電路產業投資基金和蘇州聚源東方完成對拓荊投資
中微反應臺交付量突破400臺
由於中微电浆刻蝕機的成功研發和量產,美國商務部取消了电浆刻蝕機對中國的出口控制
《國家集成電路產業發展推進綱要》發佈後,中微成為第一家“大基金”投資的企業
中微22納米介質刻蝕設備研製成功
首臺MOCVD設備產品研製成功,並運往國內客戶
二期新廠房22000平方米落成啟用
中微45納米介質刻蝕設備研製成功
首臺TSV/MEMS/Dicing刻蝕設備產品研製成功,並運往客戶
中微公司一
首臺CCP刻蝕設備產品研製成功,並運往國內客戶
一期新廠房6500平方米落成啟用
在張江高科技園區啟動運營